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簡要描述:日本fuji 單組分濃度計FUD-1Model-130單組分濃度計特點Model-130是強調(diào)測量濃度穩(wěn)定性的概念模型,。在半導(dǎo)體制造工藝等需要高精度和高穩(wěn)定性濃度計的情況下非常有效
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,能源,電子,綜合 |
日本fuji 單組分濃度計FUD-1Model-130
1.單組分濃度計特點
Model-130是強調(diào)測量濃度穩(wěn)定性的概念模型,。在半導(dǎo)體制造工藝等需要高精度和高穩(wěn)定性濃度計的情況下非常有效。
2.優(yōu)點
-可進行高精度連續(xù)測量
-免維護,無需定期調(diào)整或校準(zhǔn)
-安裝方便,安裝過程中無需進行各種調(diào)整
-實時輸出可以輕松向流程提供反饋
3.目的
-CMP工藝中的CMP漿料或氧化劑濃度管理等
-稀釋過程中各種化學(xué)品濃度控制(H2O2、TMAH、HNO3、H2SO4、HCl等)
-清洗過程中清洗液濃度管理(HF、NH4OH、KOH、IPA等)
-蝕刻過程中蝕刻液濃度控制(HF、H2SO4等)
日本fuji 單組分濃度計FUD-1Model-130
1.單組分濃度計特點
Model-130是強調(diào)測量濃度穩(wěn)定性的概念模型,。在半導(dǎo)體制造工藝等需要高精度和高穩(wěn)定性濃度計的情況下非常有效。
2.優(yōu)點
-可進行高精度連續(xù)測量
-免維護,無需定期調(diào)整或校準(zhǔn)
-安裝方便,安裝過程中無需進行各種調(diào)整
-實時輸出可以輕松向流程提供反饋
3.目的
-CMP工藝中的CMP漿料或氧化劑濃度管理等
-稀釋過程中各種化學(xué)品濃度控制(H2O2、TMAH、HNO3、H2SO4、HCl等)
-清洗過程中清洗液濃度管理(HF、NH4OH、KOH、IPA等)
-蝕刻過程中蝕刻液濃度控制(HF、H2SO4等)