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日本advanced 厚度/膜厚/光學常數測量裝置

  • 產品型號:ETA-TCM
  • 更新時間:2024-08-13

簡要描述:日本advanced 厚度/膜厚/光學常數測量裝置 ETA-TCM
這是一種測量納米級薄膜厚度的裝置。其特點是快速、非接觸、能夠高精度地進行大面積測量。

產品詳情
品牌其他品牌產地類別進口
應用領域綜合

日本advanced 厚度/膜厚/光學常數測量裝置 ETA-TCM

這是一種測量納米級薄膜厚度的裝置。其特點是快速、非接觸、能夠高精度地進行大面積測量。

特長:

反射/透射光譜測量

測量基材上單層薄膜的 n/k(光學常數)

基材上堆疊的每層薄膜的膜厚(最多3層)

各膜層光學模型及參數可調

受光部波長帶(320nm~1700nm)

配備自動校準功能

支持高速測量、卷對卷、在線測量

應用:

1.電子產品

顯示/照明/半導體/OLED等

實例:AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/絕緣/TFT等。

2.汽車

醫(yī)療器械/藥品/細胞/小瓶等

實例:AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/隔膜等。

3.生物醫(yī)學

顯示/照明/半導體/OLED等

實例:SiO2涂層/醫(yī)用薄膜等。

4.其他的

太陽能電池/鋰電池/鏡頭/飲料容器/光盤等

實例:阻隔膜/硬涂層/SiO2涂層/聚碳酸酯/隔膜等。

日本advanced 厚度/膜厚/光學常數測量裝置 ETA-TCM

這是一種測量納米級薄膜厚度的裝置。其特點是快速、非接觸、能夠高精度地進行大面積測量。

特長:

反射/透射光譜測量

測量基材上單層薄膜的 n/k(光學常數)

基材上堆疊的每層薄膜的膜厚(最多3層)

各膜層光學模型及參數可調

受光部波長帶(320nm~1700nm)

配備自動校準功能

支持高速測量、卷對卷、在線測量

應用:

1.電子產品

顯示/照明/半導體/OLED等

實例:AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/絕緣/TFT等。

2.汽車

醫(yī)療器械/藥品/細胞/小瓶等

實例:AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/隔膜等。

3.生物醫(yī)學

顯示/照明/半導體/OLED等

實例:SiO2涂層/醫(yī)用薄膜等。

4.其他的

太陽能電池/鋰電池/鏡頭/飲料容器/光盤等

實例:阻隔膜/硬涂層/SiO2涂層/聚碳酸酯/隔膜等。

日本advanced 厚度/膜厚/光學常數測量裝置


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